Chi tiết sản phẩm
- Semiconductor Processing Equipment
- Mã sản phẩm: PREE-BIR2010 / BI2R2010
- Hãng sản xuất : C SUN
- Giá: Liên hệ
- THÔNG TIN SẢN PHẨM
- Thông số kỹ thuật
- Catalogue
- Bình luận
Đặc trưng:
• Nguồn plasma mật độ cao (ICP) đạt được tốc độ khắc cao.
• Thiết kế Loadlock có tác dụng ổn định môi trường xử lý hiệu quả và ngăn ngừa nhân viên tiếp xúc với khí độc hại.
• Giá đỡ 8inch cho phép đặt linh hoạt các mẫu thử có kích thước nhỏ.
• Thiết kế giá đỡ đặc biệt có thể giảm thiểu ô nhiễm dạng hạt.
• Có thể đáp ứng các yêu cầu về quy trình thụ động hóa, oxit, nitrua, silicon carbide, khắc silicon và làm sạch carbon.
• Thiết kế hệ thống chân không hiệu suất cao với plasma mật độ cao (Loadlock) để đạt thông lượng cao hơn.
Sản phẩm liên quan
